Модель промышленной печи Hwf6630-10, установка химического осаждения из паровой фазы (CVD) бакового типа

Печь HWF66330-10 Vapor Vapore Deposation предназначена для средней температурной термообработки электронных продуктов. Он поддерживает процессы реакции пара фазы пара в атмосферовой, ацетилен и водородной атмосферах, а также в процессах спекания в защитных атмосферах. Эта печь, оснащенная системой мониторинга компьютера в реальном времени, идеально подходит для тестирования процесса материала в исследовательских средах.

• Модель:HWF6630-10
• Рабочая температура:750 ° C.
• Максимальная температура:1000 ° C.
• Эффективный размер камеры:Φ600 × 300 мм (D × H)
• Элемент отопления:Внутреннее нагревание с нагревательными трубками из нержавеющей стали
• Атмосфера обработки:Азот, водород, ацетилен
• Метод отопления:Нагреватель керамического волокна FEC
• Точки контроля температуры:2
• Стабильность температуры:± 1 ° C, с функцией самоотрагивания параметров PID
• Метод управления:Сенсорный экран + PLC Centralized Control
• Защита тревоги:Слышимые и визуальные тревоги для перерыва в области перерыва и термопары
• Скорость нагрева:≤6 ° C/мин
• Нагревательная мощность:16 кВт
• Требования к мощности:3-фазный 5-проводной, 220/380 В, 50 Гц, емкость> 22 кВА

О Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

Мы специализируемся на исследованиях, разработке и производстве промышленных печей с высокой, средней и низкотемпературной печей и лабораторных печей. Наш ассортимент продукции включает в себя различные типы печи, широко применяемые в продвинутой керамике, электронных компонентах, порошковой металлургии, новой энергии и фотоэлектрической промышленности.